NI201 نکل کا ہدف

ہم جدید مینوفیکچرنگ کے عمل اور کوالٹی کنٹرول کے اعلی معیار کا استعمال کرتے ہیں ، جو ہمارے نکل کے اہداف کو اسپٹرنگ کے عمل کے دوران اعلی سطح کی یکسانیت کا مظاہرہ کرنے کی اجازت دیتے ہیں۔ یہ یکسانیت نکل کے جوہری کو ہدف کی سطح سے جاری کرنے اور مستحکم اور مستقل شرح پر سبسٹریٹ پر جمع کرنے کی اجازت دیتی ہے ، جس سے کم سے کم انحراف اور اعلی سطح کی چپٹی کے ساتھ نکل فلم تشکیل دی جاتی ہے۔

NI201 نکل کے ہدف کے مواد میں اچھی ٹینسائل کی طاقت ، پیداوار کی طاقت اور لمبائی ہے ، تاکہ یہ بغیر کسی توڑے بغیر پیداوار اور پروسیسنگ کے دوران پروسیسنگ کے مختلف دباؤ کا مقابلہ کرسکے۔

سیمیکمڈکٹر مینوفیکچرنگ کے عمل میں ، درجہ حرارت کی اعلی مزاحمت ایک ایسی مصنوعات کی وصف ہے جسے نظرانداز نہیں کیا جاسکتا۔ NI201 نکل کے ہدف کے مواد میں اچھا تھرمل استحکام ہے اور وہ اعلی درجہ حرارت پر مستحکم جسمانی اور کیمیائی خصوصیات کو برقرار رکھ سکتا ہے۔ یہ اعلی درجہ حرارت کی وجہ سے واضح توسیع ، سنکچن اور اخترتی کا سبب نہیں بنے گا۔ یہ ایک مستحکم پھیلاؤ کے عمل اور نکل فلم کے مستقل معیار کو یقینی بناتا ہے۔